星期六, 27 4 月, 2024

ENVOSYS

商標查詢資料

  • 註冊編號 01751730
  • 申請案號 104002674
  • 商標名稱 ENVOSYS
  • 商標種類 商標
  • 商標樣態 平面
  • 商標圖樣
  • 圖樣顏色 墨色
  • 圖樣中文 -
  • 圖樣英文 ENVOSYS
  • 圖樣日文 -
  • 類別代碼 007
  • 商品服務
    處理半導體之裝置,特別是於真空狀態下處理半導體;輸送半導體之裝置;半導體表面處理裝置及設備;半導體表面蝕刻裝置及設備;汽化半導體表面之裝置,特別是於真空狀態下(CVD製程);輸送、製造半導體之裝置,輸送、製造光電元件之裝置,輸送、製造平面螢幕之裝置;用於表面蒸汽分離之裝置,特別是在真空狀態下(CVD製造過程)。
  • 類別代碼 009
  • 商品服務
    用於表面和物件之熱處理、或用於修飾表面(尤指用於半導體表面)之熱處理方面的操作系統及裝置(包括擴散爐、連續爐、汽化半導體表面之裝置、烘爐、真空爐)之電腦硬體與軟體;用於淨化氣體與廢氣之操作系統及裝置(包括廢棄淨化裝置)之電腦硬體與軟體。
  • 類別代碼 011
  • 商品服務
    用於熱預處理或製造過程之系統及裝置,包括擴散爐、連續爐、塗鍍爐、烘爐、真空爐;氣體及廢氣處理及淨化裝置;排放廢氣於環境之裝置;氣體燃燒塔;污水淨化廠;污水淨化處理裝置;污水處理廠。
  • 商標權人杉特羅淨化處理公司
  • 登記地址德國
  • 代理姓名蔡清福
  • 代理地址 臺北市中山區中山北路3段27號13樓
  • 代理姓名林明燕
  • 代理地址 臺北市中山區中山北路3段27號13樓
  • 公告卷數 043
  • 公告期數 002
  • 承辦人員 陳杏映
  • 專用期限 2026-01-15
  • 首次收文 2015-01-16
  • 申請日期 2015-01-16
  • 註冊日期 2016-01-16

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