centrotherm Clean Solutions

特別在真空狀態下，用於半導體之加工、處理，物理性製造加工、化學性製造加工之機械；用於運輸半導體的機械；用於處理半導體表面之光阻剝離機、清洗機、蝕刻機、燃燒機、退火機、硬化機、乾燥機、焊接機、氧化機、擴散機、沉積機、電漿濺渡機、離子植入機、化學氣相沉積機、物理氣相沉積機；半導體表面化學蝕刻機；用於儲存半導體之機械；用於運輸、製造、加工、處理及儲存光伏元素之機械；用於運輸、製造、加工、處理及儲存平面顯示器之機械。

用於熱處理或製造過程之系統及裝置，例如擴散爐、連續爐、塗鍍爐、烘爐、真空爐；空氣淨化機、空氣收集器、空氣儲存機、廢氣淨化機、廢氣收集器、廢氣儲存機；廢氣除去機；用於工業處理過程、生產線上及工作地點及其周圍區域之廢氣除去機。